ЗНТЦ сдержал обещание: отечественный литограф с разрешением 350 нм уже в продаже

20.05.2026 12:37:28

Источник: ELEC.RU

Это событие, которое ещё несколько лет назад казалось несбыточным. Российский фотолитограф — не макет, не опытный образец за стеклом на выставке, не пресс-релиз с обещаниями. Зеленоградский нанотехнологический центр начал продажи. Реальные поставки реального оборудования реальным производителям.

Для страны, которая не производила современных промышленных литографов, это — веха.

Что такое литограф и почему он решает всё

Литограф — сердце любого производства . Именно эта установка переносит рисунок будущего чипа на кремниевую пластину с помощью света. Без неё не существует ни одного производства микроэлектроники — ни военного, ни гражданского, ни космического.

В СССР существовало производство литографического оборудования — установки серии «Электроника», «Микрон» и другие. Но современных промышленных литографов, отвечающих актуальным нуждам производства, Россия не выпускала. Всё актуальное оборудование на отечественных заводах — импортное, западных и японских производителей. После 2022 года поставки прекратились. Обновлять парк оборудования стало невозможно. Производственные линии медленно устаревали.

Именно в этот момент ЗНТЦ сделал то, что от него ждала вся отрасль.

Источник: ЗНТЦ

От чертежа до продажи: путь длиной в четыре года

Зеленоградский нанотехнологический центр взялся за разработку собственного литографа в 2021 году, когда санкционные риски ещё только обозначались, а не стали реальностью. В марте 2025 года разработка была завершена. В апреле 2026 года начались продажи.

Первый российский современный промышленный фотолитограф с разрешением 350 нм — не просто копия чего-то существующего. Это оригинальная инженерная разработка с рядом принципиальных решений:

• рабочее поле увеличено с 3,2×3,2 мм до 22×22 мм — многократный прирост производительности;
• максимальный диаметр обрабатываемых пластин вырос со 150 до 200 мм — соответствие современным производственным стандартам;
• вместо ртутной лампы применён твердотельный лазер — более мощный, долговечный и точный источник излучения.

Один из первых потенциальных заказчиков — «Микрон», крупнейший российский производитель микросхем. Это не случайный выбор: «Микрон» производит широкий спектр изделий, включая карты «Мир» и транспортные карты «Тройка», и остро нуждается в отечественном производственном оборудовании.

Куда движется ЗНТЦ дальше

Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв в интервью ежегоднику «Живая электроника России — 2026» раскрыл дорожную карту, которая звучит как заявка на серьёзную программу:

• с 2027 года — производство установки проекционного экспонирования с разрешением 130 нм;
• в разработке — установка электронно-лучевой литографии с разрешением 150 нм;
• в разработке — установка контроля дефектности поверхности пластин с обнаружительной способностью 45 нм;
• начата разработка кластерной линии фотолитографии для субмикронной DUV-литографии при изготовлении СБИС на пластинах диаметром 200 мм.

Это не просто следующее поколение одного прибора. Это формирование полноценной российской школы электронного машиностроения: от литографа до контрольно-измерительного оборудования.

Где находится мировая литография

Здесь важна честность. Мировые лидеры работают на принципиально иных нормах:

• С 2019 года ведущие производители TSMC, Samsung и Intel перешли на EUV-литографию для техпроцессов 7 нм и ниже;
• К 2025 году EUV стала стандартом для производства чипов на 5 нм, 3 нм и 2 нм;
• TSMC запустила полномасштабное производство микросхем по топологии 2 нм в конце 2025 года — это самый тонкий серийный техпроцесс в мире на сегодняшний день;
• Массовое производство чипов по нормам 1,4 нм с применением новых литографов ASML серии High-NA ожидается в 2027–2028 годах.

Создано с помощью ИИ

Разрыв между 350 нм российского литографа и 2 нм TSMC — это факт, который нужно называть прямо. Но этот разрыв не отменяет значимости события. Он объясняет, почему оно важно именно сейчас.

Почему 350 нм — это не вчерашний день, а стратегический выбор

Гонка за нанометрами захватывает воображение, но производство реальной электроники устроено иначе. Нормы 2–5 нм нужны для флагманских процессоров смартфонов и ИИ-ускорителей. Это потребительская и серверная электроника высшего класса.

Однако колоссальный пласт критически важных изделий производится на нормах от 90 до 500 нм:

• для промышленной автоматики и приборостроения;
• и преобразователи энергии;
• радиационно-стойкие микросхемы для спутников и космических аппаратов;
• СВЧ-компоненты для радиолокации и систем связи;
• специализированные микросхемы для оборонных применений;
• аналоговые схемы, сенсоры, датчики всех типов.

Именно в этом сегменте российская промышленность испытывала острейший дефицит отечественного оборудования. И именно здесь российский литограф 350 нм закрывает реальную производственную потребность — не гипотетическую, не перспективную, а сегодняшнюю.

130 нм, к которым ЗНТЦ движется к 2027 году, — это уровень, на котором производятся полноценные микроконтроллеры, специализированные процессоры и широкий спектр аналогово-цифровых схем. Это серьёзный следующий рубеж.

Что означает этот момент для всей отрасли

ЗНТЦ преодолел барьер, который казался непреодолимым. Не на бумаге — в металле, оптике и программном обеспечении. С реальными покупателями и реальными поставками.

Это означает, что российская микроэлектроника впервые получает возможность не просто производить чипы на существующем оборудовании, но и развивать производство на собственной технологической базе. Обновлять парк оборудования. Двигаться вперёд независимо от того, что решат в Амстердаме или Вашингтоне.

Путь до передового края мировой литографии долог. Но первый российский современный промышленный литограф — это не точка отставания. Это точка отсчёта.

Подробнее: https://www.elec.ru/publications/elektronika/9940/